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    標簽 > euv

    euv簡介

      光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻,所以叫 Mask Alignment System.

      一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。

      Photolithography(光刻) 意思是用光來制作一個圖形(工藝);

      在硅片表面勻膠,然后將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時“復制”到硅片上的過程。

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    出貨100萬 三星業界首款EUV DRAM推出

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    三星EUV技術成功應用于DRAM生產

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    臺積電5nm工藝比官方宣傳更精細 晶體管密度達10nm工藝的3.3倍

    臺積電5nm工藝比官方宣傳更精細 晶體管密度達10nm工藝的3.3倍

    一般來說,官方宣傳數據都是最理想的狀態,有時候還會摻雜一些水分,但是你見過實測比官方數字更漂亮的嗎?

    2020-03-24 標簽: 臺積電EUV 678 0

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